雷射光學
HELIOS III 新一代淨膚D.O.E.光繞雷射
2018-07-03
光繞雷射的全名是: Neodymium doped : Yttrium Aluminum Garnet。光繞雷射是採用1064/532nm雙波長,利用Q開關將雷射能量在極短的時間內瞬間輸出,在不傷害周邊組織的情況下,以高效率分別擊碎深層與淺層色素黑色素,除了不容易有疼痛及出血的現象外,同時刺激真皮層新生膠原蛋白,有效改善膚色、肌膚質地及色素斑問題。
Helios III光繞雷射除了提供除斑與色素治療外,還利用300us的FR模式延伸出像是回春、泛紅、灰指甲甚至是小型血管瘤治療等新的適應症。除了搭載原有的低溫飛梭探頭,獨家的532nm數位透鏡更是開創532nm波長的全新治療領域,使用沒有傷口的方式有效改善淺層斑點,突破傳統Q-S Nd:YAG的使用限制。